ASML執行長：美國限制EUV設備出口導致中國晶片制造落后10至15年

荷蘭晶片設備制造商ASML的執行長福克（Christophe Fouquet）近日表示，由于美國實施對中國的技術禁運，特別是限制出口極紫外光（EUV）曝光設備，中國的半導體制造技術預計將落后西方大約10至15年。福克在接受荷蘭《商務日報》（NRC Handelsblad）采訪時詳細闡述了美國對中國晶片產業的限制性措施，及其對全球半導體供應鏈的影響。

美國的制裁對中國晶片產業的影響

福克指出，隨著美國的出口禁令，中國無法獲得ASML公司生產的尖端EUV設備，這直接導致了中國在晶片制造技術上與西方的差距日益加大。EUV技術是目前全球最先進的曝光技術，主要用于7奈米及以下制程的半導體生產。ASML是全球唯一能提供EUV曝光系統的公司，因此，中國無法獲得這一技術意味著其在最先進的晶片制造領域處于明顯的技術劣勢。

“這些限制措施確實產生了效果，”福克說道。“如果沒有EUV技術，中國的技術進步將停滯不前，至少在未來的10至15年內，難以趕上西方的先進水平。”

中國的半導體行業依然堅韌自強

盡管如此，福克也對中國半導體產業的韌性給予了肯定。他表示，雖然中國的晶片制造業面臨重重挑戰，但其依然在奮力前行。中國在半導體產業的各個環節都有一定的技術積累，尤其是在成熟制程技術方面，依靠自主研發取得了一定的進展。福克認為，不論是中國、美國還是其他國家，都會將ASML視作全球半導體產業的重要環節和關鍵供應商。

ASML的未來戰略與中國市場

福克還談到了近期關于美國要求荷蘭禁止ASML為中國提供維修服務的報道。對此，福克表示，ASML希望繼續管理在中國市場的設備，以確保其能夠正常運轉。若中國企業自行維修設備，可能會面臨安全和信息泄露的風險，特別是在敏感技術領域。“我們希望美國政府能理解這一點，避免過度干預。”他強調道。

EUV技術對全球半導體行業的重要性

目前，全球約90%的半導體產品都依賴ASML的曝光系統進行生產。隨著半導體制程不斷向更小的尺寸演進，EUV技術在先進制程中的重要性愈加突出。尤其是隨著5奈米及以下制程的逐步普及，EUV技術不僅成為半導體生產的核心工具，也深刻影響著全球半導體產業的競爭格局。

綜上所述，雖然美國對中國半導體產業的技術限制已經產生了顯著影響，但中國仍在努力通過自主研發來縮小與西方國家之間的差距。然而，在未來的半導體技術競爭中，EUV技術無疑將繼續成為全球晶片制造的制勝關鍵，而ASML則將在這一過程中扮演不可或缺的角色。

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